[討論] 華為 EUV光刻機 新專利 突破目前科技極限
華為申請EUV設備專利，中國半導體提供應鏈夢想"完全獨立"。从华为最新EUV光刻专利，我们能了解到什么？华为突破EUV光刻机专利簡而言之，華為已經找到方法繞過美國傳統 EUV 專利，
並可達到比現有科技尺寸大十倍的地步
未來半導體製程獨立於美國 將指日可待
美國封鎖中國 中國或成最大贏家

@Silentsubmarine on Plurk