近期配合工作的需求，調整了畫圖上的一些壞習慣

原本的壞習慣
線稿潦草：以厚塗的上色方式去掩蓋架構不精確的線稿
色塊結構不完整：塗抹工具憑直覺抹，沒有考慮到結構問題。

這兩個月剛好工作上每天都在畫畫(但都不能發)，對於「結構」這件事有不一樣的了解。
光影變化跟結構是兩件事，但結構的呈現方式會受到光線影響。

【現在調整的方式】
即便上色的方式是厚塗，線稿也不能隨便撇，前後架構必須清楚再進行下一步。
塗抹工具抹之前先看畫面這一塊在畫面中是凸出來的還是凹下企的，相對光線是在受光面還是暗面，或暗面但受環境光的反射

---
剛好有一個會畫畫的同事，會給我一些畫畫上的建議，所以發現其實畫畫想要進步有時候不可以太故步自封，自己還是會有一些盲點